Особливості формування багаторівневої металізації в субмікронних структурах великих інтегральних схем

S. P. Novosyadlyj, S. I. Boyko, M. V. Kotyk

Анотація


В даній статті проведено огляд сучасних алюмінієвих сплавів що використовуються при формуванні багаторівневої металізації в субмікронних структурах ВІС/НВІС та магнітних сплавів що використовуються для виготовлення магнітних дисків зовнішніх запам’ятовуючих пристроїв з досить великим об’ємом пам’яті для сучасних ЕОМ. Крім того наведено характеристики магнетронів що можуть бути використані для напилення металізації: магнетронного розпилювального пристрою з магнітним блоком, що обертається охолоджувальною деіонізованою водою, який дозволяє значно підвищити ефективність розпилення мішені; магнетронного високочастотного пристрою УМВ-2,5 з магнітною системою, що сформована на електромагнітах із скануванням магнітного поля; установки двостороннього магнетронного розпилення металевих мішеней типу УВН МДЕ.П-1250-012; Двоярусного пристрою магнетронного формування багаторівневої контактної металізації на основі установки вакуумного напилення УРМ.3.279.05;

Ключові слова: Металізація, магнетронне розпилення, тонкоплівкова технологія.


Посилання


S. P. Novosyadlyy, R. M. Ivanyuk, Physics and Chemistry of Solid State 8(4), 850 (2007).

J. Musila, H. Zemana, J. Kaslb, Thin Solid Films 413(1-2), 121 (2002).

H. Zemana, J. Musila, J. Vlčeka, P. H. Mayrhoferb, C. Mittererb, Vacuum 72(1), 21 (2003).

S. P. Novosyadlyy, Metalofizyka i novitni tekhnolohiyi 22(1), 51 (2000).

S. P. Novosyadlyy, L. V. Mel'nyk, T. P. Kindrat, V. M. Varvaruk , Skhidno-Yevropeys'kyy zhurnal novitnikh tekhnolohiy 4(5), 1 (2013).

J. Musila, M. Šašeka,P. Zemana, R. Čerstvýa, D. Heřmana, J.G. Hanb, V. Šatavaa, Surface and Coatings Technology 202(15), 3485 (2008).


Повний текст: PDF
7 :: 17

Посилання

  • Поки немає зовнішніх посилань.